产品系列

PECVD设备

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产品介绍

PF-300T、PF-200T
12英寸 , 8英寸PECVD设备

产品介绍

PF-300T为拓荆承担国家“十一五”重大专项,自主设计研发的产品系列。设备已用于40-28纳米集成电路的生产,具有14纳米及以下技术的延展性,可实现所有相关介质薄膜的沉积。同时已延伸至先进膜技术,产品涵盖了高刻蚀选择比的ACHM硬掩膜、低介电常数的绝缘薄膜及NDC刻蚀阻挡层、超低介电常数的ULK薄膜,可满足客户多种技术节点要求。


 
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