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HTM PECVD设备

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产品介绍

NF-300H
HTM PECVD设备 

产品介绍

NF-300H 设备由拓荆科技承担了国家十三五重大专项,自主研发,拥有自主知识产权。应用于128层及以上3D NAND闪存芯片的生产。可实现SiO2、SiN(ONON)多层薄膜堆叠结构和Thick TEOS 薄膜,在均匀性、颗粒度、粗糙度、应力及产能等方面实现技术突破,设备性能指标达同类产品水平。


 
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